에칭(Etching)이란?

1. 에칭(Etching)

소재의 표면을 선택적으로 제거(부식·용해)하여 미세한 패턴, 문자, 구조를 만드는 공정 또는 기술을 말합니다.

주로 화학적 반응이나 물리적 에너지를 이용해 표면을 깎아냅니다.

2. 에칭의 종류

1) 습식 에칭 (Wet Etching)

- 방식 : 산·알칼리·화학 용액으로 용해

- 특징 : 공정 단순, 비용 낮으며 등방성 에칭(옆으로도 깎임)

2) 건식 에칭 (Dry Etching)

- 방식 : 플라즈마, 이온, 가스 반응

- 특징 : 미세 패턴 구현과 방향성(수직 에칭) 우수

3) 레이저 에칭

- 방식 : 레이저로 표면 국부 제거

- 특징 :화학물질 불필요하며 금속 마킹, 유리 가공에 사용

3. 에칭 공정 흐름도(가본)

[기판 준비]⟶ [세정 (Cleaning)]⟶ [마스크/코팅 형성]⟶ (Photoresist, 보호막)⟶ [노광 (Exposure)]

⟶ [현상 (Develop). 패턴형성] ⟶ [에칭 (Etching), 노출된 부분 선택적 제거] ⟶[에칭 종료 / 중화]

⟶ [마스크 제거 (Strip)] ⟶ [후세정 / 건조] ⟶ [검사 (Inspection)]

4. 에칭과 각인의 차이점