포토폴리머란 광을 조사함으로써 화학구조가 변화하고, 그에 따라 물성과 상태가 변화하는 폴리머나 올리고머를 말한다.
물성변화의 예로서는 용해성, 극성, 굴절률, 색, 투과도 및 접착성 등이 있다.
또한 상태변화로는 광경화와 같이 액체로부터 고체로의 변화나, 어블레이션과 같이 고체로부터 액체로의 변화 등이 있다.
조사선종에는 광 외에 방사선이나 전자선도 포함되는 경우 가 많다.
옥심의 카르복시산에스테르가 고효율로 광분해되어 제1급 알킬아민을 생성 하는 것이 발견되었으며, 이 폴리머를 광극성 변환
작용기로서 활용하거나, 에폭시수지의 광가교제로 활용하는 연구가 진행되고 있다.
옥심의 카르복시 산에스테르의 광반응에서는 먼저 N-O결합이 라디칼 해열하고, CO2가 탈리 된 다음 라디칼끼리 커플링반응을
하여 이민이 생성되고, 가수분해에 의해 제1급 알킬아민이 생성된다.
반도체의 고집적화를 위해 집적도를 높이기 위해 필요한 미세가공기술로서 수은등 광원의 g-선(436nm)이나 I-선(365nm)을 사용한
사진기술인 포토리토 그라피 대신 KrF 엑시머레이저(248nm)를 광원으로 하는 리토그라피가 등장 하였다.
소량의 광량으로 용해성이 변화하고, 현상처리하면 패턴이 얻어지는 고감도 포토레지스터 재료도 요구되고 있다.
화학증폭형 레지스트에서는 감광제로 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모 네이트와 같은 오늄염형 광산 발생제가 사용된다.
오늄염은 레지스트 폴리머 에 대한 용해성이 낮은 결점을 가지고 있으나, 오늄의 술폰산에스테르계의 광산 발생제가 비이온성인
특징을 살려 화학증폭형 레지스트에 응용이 되고 있다.
자료:
http://cafe.naver.com/adhesive/98607
