1. 에칭(Etching)
소재의 표면을 선택적으로 제거(부식·용해)하여 미세한 패턴, 문자, 구조를 만드는 공정 또는 기술을 말합니다.
주로 화학적 반응이나 물리적 에너지를 이용해 표면을 깎아냅니다.
2. 에칭의 종류
1) 습식 에칭 (Wet Etching)
- 방식 : 산·알칼리·화학 용액으로 용해
- 특징 : 공정 단순, 비용 낮으며 등방성 에칭(옆으로도 깎임)
2) 건식 에칭 (Dry Etching)
- 방식 : 플라즈마, 이온, 가스 반응
- 특징 : 미세 패턴 구현과 방향성(수직 에칭) 우수
3) 레이저 에칭
- 방식 : 레이저로 표면 국부 제거
- 특징 :화학물질 불필요하며 금속 마킹, 유리 가공에 사용
3. 에칭 공정 흐름도(가본)
[기판 준비]⟶ [세정 (Cleaning)]⟶ [마스크/코팅 형성]⟶ (Photoresist, 보호막)⟶ [노광 (Exposure)]
⟶ [현상 (Develop). 패턴형성] ⟶ [에칭 (Etching), 노출된 부분 선택적 제거] ⟶[에칭 종료 / 중화]
⟶ [마스크 제거 (Strip)] ⟶ [후세정 / 건조] ⟶ [검사 (Inspection)]
4. 에칭과 각인의 차이점
구분 | 에칭 | 각인 |
방식 | 화학·플라즈마 반응 | 기계적 절삭 |
정밀도 | 매우 높음 | 상대적으로 낮음 |
미세 패턴 | 가능 | 어려움 |
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